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數(shù)據(jù)中心電源升級:為何離不開寬禁帶半導體?

國際金屬加工網(wǎng) 2025年04月28日

根據(jù)Synergy Research Group的報告顯示,截至2024年底,超大規(guī)模運營商運營的數(shù)據(jù)中心數(shù)量達到1136個,較2019年第四季度的不到600個大幅增加,意味著全球超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心數(shù)量在過去五年中幾乎翻了一番。   

此外,未來幾年規(guī)劃中的數(shù)據(jù)中心項目數(shù)量自2022年3月以來增長了60%,從314個增加到2025年3月的504個。這些設施不再是過去單棟10兆瓦(MW)的數(shù)據(jù)中心,而是占地數(shù)百英畝、包含多棟建筑的100兆瓦以上大型園區(qū)。   

今年年初,日本軟銀集團、OpenAI和甲骨文三家企業(yè)宣布將投資5000億美元,打造“星際之門”項目,用于在美國建設支持AI發(fā)展的基礎設施。   但與此同時,市場也有不同意見。“大型科技公司、投資基金和其他機構正紛紛從美國到亞洲各地倉促建設服務器基地,這種投資顯得盲目,很多服務器基地在建設時并未明確考慮客戶需求?!?月25日,據(jù)港媒報道,在2025年匯豐全球投資峰會上,阿里巴巴集團董事長蔡崇信指出,目前全球數(shù)據(jù)中心建設速度超出人工智能(AI)的初始需求,警告可能出現(xiàn)泡沫風險。   

另外,微軟取消的歐美數(shù)據(jù)中心項目總

不過無論如何,大規(guī)模數(shù)據(jù)中心為支撐高強度的 AI 運算,其能源消耗在近年來呈幾何倍數(shù)增長,這已經成為了不爭的事實,部分超大型數(shù)據(jù)中心的年度耗電量甚至堪比一座小型城市。這不僅導致運營成本大幅增加,還對全球能源供應與可持續(xù)發(fā)展構成嚴峻挑戰(zhàn)。   

電源管理作為優(yōu)化芯片功耗、提升能源利用效率的核心技術,以及功率密度提升所代表的芯片性能與空間利用的高效化追求,已然成為當下 AI 芯片領域的研究焦點與競爭高地。芯片公司也正在努力提升功率密度,應對未來 AI 產業(yè)發(fā)展需求。   

以下節(jié)選了幾家芯片公司發(fā)表的針對AI服務器的白皮書和最新見解,無論哪家公司都認為,未來硅不會消失,同時寬禁帶半導體的需求將會越來越多。

安森美:SiC MOSFET 如何提高 AI 數(shù)據(jù)中心的電源轉換能效

安森美產品線經理 Wonhwa Lee表示,散熱是數(shù)據(jù)中心面臨的一個重大挑戰(zhàn)。據(jù)估計,當今大多數(shù)數(shù)據(jù)中心散熱系統(tǒng)的電力消耗占比超過 40%。實際上,對于電源效率,浪費的能源主要以熱量形式散失,而這些熱能又需要通過數(shù)據(jù)中心的空調系統(tǒng)排放出去。因此,電源轉換效率越高,產生的熱量就越少,相應地,在散熱方面的電費支出也就越低。   

數(shù)據(jù)中心內功率密度加速上升,大約十年前,每個機架的平均功率密度約為 4 至 5 kW,但當今的超大規(guī)模云計算公司(例如亞馬遜、微軟或 Facebook)通常要求每個機架的功率密度達到 20 至 30 kW。一些專業(yè)系統(tǒng)的要求甚至更高,要求每個機架的功率密度達到 100kW 以上。因電源存放及散熱空間有限,高功率密度要求電源設計緊湊且高能效,同時電源還需滿足數(shù)據(jù)中心行業(yè)特定需求,如 AI 數(shù)據(jù)中心 PSU 需符合嚴格的 Open Rack V3(ORV3)基本規(guī)范。近期新型 AC - DC PSU 標稱輸入范圍 200 至 277VAC,輸出 50VDC,ORV3 標準要求在 30% 至 100% 負載條件下峰值效率超 97.5%,10% 至 30% 負載條件下最低效率達 94%。   

功率因數(shù)校正 (PFC) 級是 PSU 中 AC-DC 轉換的關鍵組成部分,對于實現(xiàn)高能效非常重要。PFC 級負責整形輸入電流,以盡可能放大有用功率與總輸入功率之比。為滿足 IEC 61000-3-2 等法規(guī)中的電磁兼容性 (EMC) 標準,并確保符合 ENERGY STAR? 等能效規(guī)范,PFC 設計也是關鍵所在。   對于數(shù)據(jù)中心等許多應用,最好選用“圖騰柱”PFC 拓撲來設計 PFC 級。該拓撲通常用于數(shù)據(jù)中心 3 kW 至 8 kW 系統(tǒng)電源中的 PFC 功能塊(下圖)。圖騰柱 PFC 級基于 MOSFET,通過移除體積大且損耗高的橋式整流器,提高了交流電源的能效和功率密度。  

圖 :圖騰柱 PFC 級   然而,為了實現(xiàn)超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心公司要求的 97.5% 或更高的能效,圖騰柱 PFC 需使用基于“寬禁帶”半導體材料(如碳化硅 (SiC))的 MOSFET。如今,所有 PFC 級均采用 SiC MOSFET 作為快速開關橋臂,并使用硅基超級結 MOSFET 作為相位或慢速橋臂。   

與硅 MOSFET 相比,SiC MOSFET 性能更優(yōu)、能效也更高,且穩(wěn)健可靠,在高溫下表現(xiàn)更出色,可以在更高的開關頻率下運行。   

與硅基超級結 MOSFET 相比,SiC MOSFET 在輸出電容中儲存的能量 (EOSS) 較低,而這對于實現(xiàn)低負載目標至關重要,因為 PFC 級的開關損耗主要來源于 EOSS 和柵極電荷相對較高的器件。較低的 EOSS 可大大減少開關過程中的能量損失,從而提高圖騰柱 PFC 快速橋臂的能效。此外,由于 SiC 器件具有出色的熱導率,相當于硅基器件的三倍,因此與硅基超級結 MOSFET 相比,SiC MOSFET 具有更好的正溫度系數(shù) RDS(ON)。 

下圖為 650V SiC MOSFET 導通電阻與結溫的關系。(結溫為 175℃ 時的導通電阻比室溫時的導通電阻高 1.5 倍。)

圖:650V SiC MOSFET 導通電阻與結溫的關系   同樣,下圖為 650 V 超級結 MOSFET 的導通電阻與結溫的關系。結溫為 175℃ 時的導通電阻比室溫下的導通電阻高 2.5 倍以上。  

圖:650 V 硅基超級結 MOSFET 導通電阻與結溫的關系   

比較額定 RDS(ON) 類似的硅基 650 V 超級結 MOSFET 與 650 V SiC MOSFET,在結溫 (Tj) 為 175℃ 時,前者的導通電阻RDS(ON)提高到約 50 mohm,而此時后者的 RDS(ON) 約為 30 mohm。在高溫運行期間,650 V SiC MOSFET 的導通損耗更低。   

在圖騰柱 PFC 慢速橋臂功能塊和 LLC 功能塊中,導通損耗占總功率損耗的大部分。SiC MOSFET 在較高結溫下的 RDS(ON) 較低,有助于提高系統(tǒng)能效。   

得益于在高溫下 RDS(ON) 增幅較小且 EOSS 出色,SiC MOSFET 在圖騰柱 PFC 拓撲中表現(xiàn)突出,更有助于提高能效并減少能量損失。

意法半導體:混合式TCM/CCM控制策略在交錯TTP PFC中扮演著重要角色

意法半導體表示,AI服務器作為支撐各類復雜AI運算的關鍵硬件,其電源(PSU)的性能表現(xiàn)成為了決定整個系統(tǒng)效能的重要因素。作為大功率AI服務器PSU領域的一項重大革新——混合式TCM/CCM控制策略在交錯TTP PFC中扮演著重要角色。   

先進控制策略成為必然選擇,像TCM、CCM及交錯圖騰柱PFC技術,可優(yōu)化電源性能,讓PSU能快速響應負載變化,實現(xiàn)智能電力管理。模塊化和可擴展性設計也極為關鍵,能滿足多樣化功率需求,便于維護和模塊替換,提升系統(tǒng)可靠性。   

此外,AI服務器運行產熱多,高效冷卻和熱管理技術從風冷向液冷升級,保障系統(tǒng)穩(wěn)定。增強故障容錯和預測性維護功能,減少停機風險,確保電力持續(xù)供應,是PSU高可靠性的重要體現(xiàn)。   混合式TCM/CCM控制策略詳解

圖騰柱PFC拓撲結構在PSU設計中應用廣泛,主要有單通道和交錯式兩種配置。單通道圖騰柱PFC通常適用于4kW以下的功率場合,器件數(shù)量少、電路結構相對簡單,控制簡單,易于實現(xiàn)。

交錯圖騰柱PFC則適用于對功率和效率要求更高的大功率場景。它采用兩相或三相交錯的方式,工作模式更加靈活,可以是CCM、TCM,甚至是混合模式。在輕載情況下,通過采用TCM模式和相屏蔽技術,能夠進一步提升效率,減少器件損耗,為高功率AI服務器PSU提供了更可靠的解決方案。

在PFC控制策略中,常見的有CCM(電流連續(xù)模式)、DCM(電流斷續(xù)模式)、CRM(臨界導通模式)和TCM(三角電流模式)。在本次討論的方案中,重點采用了CCM和TCM的混合模式。   

CCM的特點是電流連續(xù),開關頻率固定。這種模式在高功率、高穩(wěn)定性要求的場合表現(xiàn)出色,因為其電流波紋低,能夠提供相對穩(wěn)定的電流輸出,但其開關損耗較高,輕載時效率會有所下降。

TCM則是一種開關頻率可變的控制模式,電流波形呈三角形。其優(yōu)勢在于輕載時開關損耗低,效率較高。與DCM和CRM相比,TCM和CCM更適合AI服務器PSU應用。DCM的電流斷續(xù)特性導致其工作頻率不穩(wěn)定,且無法實現(xiàn)零電壓開通,在效率和穩(wěn)定性方面存在不足。CRM雖然也是變頻模式,但同樣沒有零電壓開通的優(yōu)勢,因此在本應用場景中未被重點考慮。而TCM和CCM結合,能夠實現(xiàn)零電壓開通,有效提升整體效率,滿足AI服務器在不同負載情況下的需求。   

混合控制模式優(yōu)勢               

混合式TCM/CCM控制模式具有多方面的顯著優(yōu)勢:   

優(yōu)化效率:混合策略可根據(jù)負載情況在TCM和CCM之間切換,從而在廣泛的工作點上優(yōu)化效率。TCM在輕負載時由于開關損耗減少而更高效,而CCM在高負載時由于導通損耗較低而更高效。   

減少紋波電流:兩相/三相交錯有助于顯著減少輸入和輸出電流紋波?;旌戏椒梢酝ㄟ^動態(tài)調整工作模式進一步優(yōu)化紋波減少。   

增強的熱管理:在兩相之間分配負載并在TCM和CCM之間切換可以帶來更好的熱性能和更均衡的熱量散布。   

改善瞬態(tài)響應:在TCM和CCM之間切換,使系統(tǒng)能夠快速適應負載變化,提供更好的瞬態(tài)響應。   

靈活性和可靠性:混合控制策略在設計和應用上提供了靈活性,使其適用于各種工作條件。它可以通過減少元件上的應力和改善熱管理來提高PFC電路的可靠性。   

混合控制模式在交錯式TTP PFC中的實現(xiàn)方式               

在交錯式TTP PFC中,實現(xiàn)混合式TCM/CCM控制模式的關鍵技術之一是滯環(huán)電流控制。通過設定電感電流的上下限,讓電感電流在這個設定范圍內波動,從而實現(xiàn)零電壓開通,有效降低開關損耗。這種控制方式響應快,能夠逐周期對電流進行精確控制,且工作模式切換靈活,可以根據(jù)實際需求在CCM、TCM或其他模式之間快速切換。但它對電感電流檢測的要求較高。 

  • 電流檢測方案

由于滯環(huán)電流控制對電感電流檢測的高要求,電流傳感器需要具備多種特性。它必須具備隔離功能,以確保電路的安全性;能夠進行雙向檢測,因為電流存在正負方向;具有低損耗特性,以減少對系統(tǒng)效率的影響;實現(xiàn)快速響應和OCP保護,滿足實時控制需求;具備高帶寬,以適應變頻信號。  

ST目前采用的是一種復合方案,即將霍爾傳感器與電流互感器(CT)結合使用。CT主要用于檢測交流高頻成分,即電感電流中的高頻電紋電流部分;霍爾傳感器負責檢測工頻成分。兩者采集的信號疊加后,能夠得到反映實際電感電流的原始信號。此外,ST也在對高帶寬霍爾傳感器進行評估,探索更優(yōu)的電流檢測解決方案。   

在硬件層面,ST方案以STM32G474為核心控制芯片,搭配相關的功率器件,如不同類型的MOSFET等,構建起完整的控制電路。STM32G474具備強大的處理能力和豐富的外設資源,為實現(xiàn)復雜的控制算法提供了硬件基礎。

方案利用STM32G474內部的DAC、快速比較器和高分辨率定時器(HRTIM)實現(xiàn)滯環(huán)控制、ZVS(零電壓開關)控制和驅動信號輸出??刂苹芈钒粋€1kHz運行的電壓外環(huán),主要作用是穩(wěn)定輸出電壓,使其保持在設定值;一個40kHz運行的電流內環(huán),用于精確控制電感電流。同時,還引入了輸入和輸出前饋控制,有效防止輸出電壓波動,提高系統(tǒng)穩(wěn)定性。

CCM實現(xiàn)方式與仿真測試結果           

進入CCM模式有兩種常見的實現(xiàn)方式,即固定紋波帶和固定開關頻率。以固定紋波帶為例,如設定紋波帶為4A,在這種情況下,整個控制過程是變頻操作。另一種方式是固定開關頻率,例如設定為70kHz,此時需要根據(jù)輸入電壓(Vin)、輸出電壓(Vout)、周期(T)和電感值(L)來計算電感器紋波。通過仿真,得到了不同方式下的電流波形。目前實際應用中采用的是固定紋波帶的方式。

從測試結果來看,在2000W(純TCM)、3500W(TCM/CCM混合)、4500W(CCM為主)等不同負載條件下,電流波形表現(xiàn)良好。例如,在2000W純TCM模式下,電流波形交錯良好;3500W混合模式時,CCM和TCM的切換區(qū)域過渡平穩(wěn);4500W以CCM為主時,CCM區(qū)間穩(wěn)定工作。這些結果充分驗證了方案的可行性和有效性,尤其是電流過零部分無明顯畸變,表現(xiàn)理想,對PFC性能的提升效果顯著,為AI服務器PSU的實際應用提供了可靠保障。

由此可見,混合式TCM/CCM控制策略在交錯TTP PFC中的應用,為大功率AI服務器PSU帶來了性能上的巨大提升。ST針對高功率AI服務器電源精心打造了專業(yè)設計套件,并提供全面的產品組合,充分滿足多樣化的設計需求,為AI服務器電源的發(fā)展注入強大動力。展望未來,該技術體系有望持續(xù)優(yōu)化,為AI領域發(fā)展筑牢電力根基。

英飛凌:PSU 架構中需要混合功率半導體的原因

英飛凌表示,未來PSU中需要硅基、碳化硅和氮化鎵的共同方案,從而在不同場景下充分發(fā)揮器件優(yōu)勢。   

硅基器件的局限性:硅在功率電子領域長期占主導,但它在處理高電壓、電流和頻率方面存在物理限制,已接近理論極限,難以進一步提升效率和功率密度。   

寬禁帶器件的優(yōu)勢:SiC和氮化鎵GaN具有更高的品質因數(shù)(FoM),在效率和功率密度方面表現(xiàn)更優(yōu)。與硅晶體管相比,GaN 晶體管輸出電荷更低,無體二極管恢復問題,反向恢復電荷低,柵極電荷低,溫度系數(shù)低;SiC MOSFET 的反向恢復電荷低,導通電阻隨溫度變化小,輸出電荷低且更線性,柵極電荷低。   

混合技術的好處:將 SiC 和 GaN 技術與現(xiàn)有的硅基設計相結合,能在效率、功率密度和整體性能方面帶來顯著優(yōu)勢。

圖:幾種產品的FOM比較   

英飛凌的創(chuàng)新 PSU 解決方案通過結合 Si、SiC 和 GaN 技術的混合組件方法,優(yōu)化了每個階段,實現(xiàn)了高功率密度和效率,降低了能源損失和提高了熱性能。這些 PSU 解決方案功率評級為 3kW 至 12kW,基準效率為 97.5%,適用于下一代 AI 數(shù)據(jù)中心,有助于降低數(shù)據(jù)中心的碳足跡。  

以英飛凌8kW PSU參考設計為例:  

無橋圖騰柱 PFC 級:該參考板的無橋圖騰柱 PFC 級采用碳化硅,有助于提高效率和可靠性。無橋圖騰柱 PFC 拓撲能夠減少傳統(tǒng) PFC 拓撲中橋式整流器的功率損耗,從而提升整體效率。比如在滿足 80 Plus 鈦金認證(要求端到端峰值效率超過 96%,意味著 PFC 級效率必須高于 98.6% )時,傳統(tǒng) PFC 拓撲因橋式整流器功率損耗難以達到這一標準,而無橋圖騰柱 PFC 拓撲僅需一個 PFC 電感,且能在整個交流周期內進行升壓操作,可實現(xiàn)高功率密度和高效率的 PSU 設計。   

高頻 LLC 級:高頻 LLC 級采用了 CoolGaN 開關,其較低的電容特性使得開關速度更快,能夠減少開關過程中的能量損耗。在高頻應用場景下,GaN 晶體管的這一優(yōu)勢尤為明顯,有助于提高電源的功率密度和整體效率 。在一些高頻電源轉換電路中,GaN 晶體管可以實現(xiàn)更快的開關動作,降低開關損耗,進而提升整個電源系統(tǒng)的性能。   

硅功率開關的應用:在 PFC 和 DC - DC 階段的整流環(huán)節(jié)使用硅功率開關,這是因為在這些環(huán)節(jié)中開關損耗極小,而硅功率開關具有極低的導通電阻,能夠充分利用這一特性來最小化導通損耗,進一步提升電源的效率。在實際的電源設計中,通過合理選擇硅功率開關,可以有效降低整流過程中的能量損失,提高電源的整體性能。   

高效率:達到 97.5% 的基準效率。    

低冷卻需求優(yōu)化:設計優(yōu)化減少了冷卻工作量。   

高功率密度:功率密度達到 100W/in3,是 ORv3 規(guī)格的兩倍。高功率密度使得 PSU 在有限的空間內可以提供更大的功率輸出。 

納微半導體:碳化硅與氮化鎵混合

納微半導體也表示,硅基電源具有很多局限性。   以 12V、1.5kW 的 CRPS 為例,采用 LLC 拓撲設計需平衡變壓器繞組、同步整流器開關和導通、電源終端等損耗。提高開關頻率可減小磁性元件尺寸,但會增加終端損耗;使用多個變壓器可避免終端損耗,但會增大體積。   

頻率限制:市場上 CRPS LLC 轉換器典型開關頻率 100 - 150kHz,1.5kW 服務器 PSU 開關頻率達 600kHz,超出硅功率 MOSFET 實際極限,需用氮化鎵高電子遷移率晶體管作為同步整流器以滿足 80 PLUS Titanium 效率要求。   

GaN 技術在電源中的應用與挑戰(zhàn)應用優(yōu)勢:GaN 晶體管在高開關頻率下性能優(yōu)越,納微基于此設計出多千瓦 CRPS 參考方案,如 4.5kW、單 54V 輸出、300kHz 開關頻率的設計,滿足 CRPS 185mm 尺寸要求。     不過氮化鎵也會面臨一些挑戰(zhàn),比如GaN MOSFET 柵極電壓范圍為 - 10V - 7V,閾值電壓 1V - 2V ,相比硅 MOSFET 更脆弱。電壓尖峰、振鈴等異常情況易損壞其柵極,如低側晶體管關斷時會使柵源電壓(VGS)出現(xiàn)負尖峰,柵極回路電感和高 di/dt 共同作用會導致 VGS 振鈴,還存在直通電流風險。  

納微的解決方案是將優(yōu)化的柵極驅動器與 GaN HEMT 集成在同一封裝內,控制驅動器與柵極間的電感和電阻值,降低柵極回路電感,防止峰值電壓過高;利用封裝內集成的保護功能,簡化電源設計。   

結合 GeneSiC MOSFET,實現(xiàn)無橋圖騰柱功率因數(shù)校正(PFC)在連續(xù)導通模式下高效運行,打造出 4.5kW 的 CRPS185 模塊,功率密度達 137W/in3 ,遠超硅基技術。   另外,納微剛剛宣布與兆易創(chuàng)新GigaDevice達成戰(zhàn)略合作伙伴關系,通過將兆易創(chuàng)新先進的高算力MCU產品和納微半導體高頻、高速、高集成度的氮化鎵技術進行優(yōu)勢整合,打造智能、高效、高功率密度的數(shù)字電源產品,并配合兆易創(chuàng)新的全產業(yè)鏈的管理能力與納微對系統(tǒng)應用的深刻理解,加速在AI數(shù)據(jù)中心、光伏逆變器、儲能、充電樁和電動汽車商業(yè)化布局。作為戰(zhàn)略合作的重要組成部分,兆易創(chuàng)新還將與納微半導體攜手共建聯(lián)合研發(fā)實驗室,融合雙方的技術專長和生態(tài)資源優(yōu)勢,驅動智能、高效電源管理方案的創(chuàng)新升級。

德州儀器:氮化鎵一切都能搞定

GaN 可實現(xiàn)高頻開關,這樣可減小無源器件的尺寸,從而增加密度。與硅和碳化硅的相比,GaN 還可降低開關、柵極驅動和反向恢復損耗,從而提高電源設計效率。可以使用 650V GaN FET 進行 AC/DC 至 DC/DC 轉換,以及使用 100V 或 200V GaN FET 進行 DC/DC 轉換以實現(xiàn)電源供應。 

針對650V 電源,德州儀器集成 650V TOLL氮化鎵,可以通過 PFC 和 DC/DC 級將交流電源轉換為直流總線,德州儀器采用 TOLL 封裝的 GaN 器件可在 PFC 級實現(xiàn)超過 99% 的效率,在 DC/DC 級實現(xiàn)超過 98% 的效率。   針對100V至200V GaN,有三個可能的系統(tǒng):   

電源單元 (PSU):開放計算項目的變化正在提升 48V 輸出的熱度;然而,所需 80V 和 100V 硅解決方案的損耗(柵極驅動和重疊損耗)相較于以前的解決方案有大幅增長。諸如 LMG3100 等 GaN 解決方案有助于盡可能減小電感-電感-電容器級(LLC 級)次級側同步整流器中的上述損耗。  

中間總線轉換器 (IBC):此系統(tǒng)將 PSU輸出的中間電壓(48V)轉換為較低的電壓,然后傳送至服務器。隨著48V電壓電平的流行,IBC有助于減少服務器子系統(tǒng)中的I 2R損耗,并使匯流條和電力傳輸線的尺寸和成本都得到降低。IBC的缺點是其在電源轉換中又增加了一步,可能會對效率產生影響。因此,除了 OEM 經測試可獲得高效率和高功率密度最佳組合的幾種新拓撲外,請務必充分利用 LMG2100 和 LMG3100 等高效 GaN 器件。  

電池備份單元:降壓/升壓級通常將電池電壓(48V)轉換為總線電壓(48V)。當市電線路斷電且電力流為雙向時,您也可以使用BBU進行電池電源轉換。不間斷電源之所以使用此級,是因為它僅通過電池直接執(zhí)行一次直流/直流轉換,避免了由直流/交流/直流轉換引起的損耗。

英諾賽科——近期與長城電源合作

日前,長城電源表示已在其面向 AI 數(shù)據(jù)中心的鈦金級電源中采用 Innoscience 氮化鎵 (InnoGaN) 技術,實現(xiàn)了 96% 以上的超高電源轉換效率,超越全球最高80PLUS 鈦金級能效標準。   

針對服務器電源的能耗困局,英諾賽科率先推出采用To-247-4封裝,集成柵極驅動和短路保護的E-GaN功率IC(ISG612xTD SolidGaN),耐壓700V,Rdson 范圍為 22~59m?。該系列產品集成精密Vgs柵極驅動器,具備快速短路保護和出色的熱性能,能夠滿足 Titanium Plus 效率的高頻開關,相比傳統(tǒng)方案,功率密度提高一倍以上。   

OCTC《高功率密度服務器電源模塊化設計白皮書(2024)》顯示,在占服務器80%運行時間、處于20%-50%的典型負載區(qū)間時,氮化鎵鈦金電源轉換效率可穩(wěn)定在95.5%-96%以上,有效避免了因 “效率斷層” 導致的隱性能耗。長城服務器電源率先采用英諾賽科合封芯片 ISG6122TD和ISG6123TD,與傳統(tǒng)電源相比,其輕中載電能損耗可減少至少30%,在20%-50%典型負載區(qū)間較傳統(tǒng)電源提升達4個百分點,實現(xiàn)了超過96%的轉換效率。據(jù)測算,采用氮化鎵鈦金電源方案,每萬臺服務器每年可節(jié)省電費超200萬元,發(fā)熱量減少50%,帶動空調能耗降低18%。有力推動智算中心PUE向1.2以下突破,實現(xiàn)了“節(jié)能 + 散熱”的雙重收益。

總結

無論是氮化鎵還是碳化硅,目前在AI服務器領域已經逐步成熟,也將越來越得到市場的青睞,尤其是隨著功率密度、效率、尺寸、轉換頻率等等一系列需求的增長,未來這一市場還將持續(xù)火熱。  

(冀凱 電子工程世界)

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